Espectroscopía de Fotoelectrones
Típicamente las "Espectroscopias de Fotoelectrones" (XPS/ESCA y AES) son unas poderosas técnicas de análisis cuantitativo no destructivo, sensibles exclusivamente a las primeras capas de la superficie de los sólidos (20-30 Å), lo que permite obtener información sobre las propiedades químicas, físicas y electrónicas de las mismas.
El interés técnico de esta información es enorme en campos tales como corrosión, catálisis, tratamientos de superficies de vidrios, fenómenos de flotación y adherencia, y los de segregación en metalúrgica, etc. Siendo el XPS/ESCA una técnica insustituible para abordar multitud de problemas que surgen en dichos campos tecnológicos.
La característica más importante de la Espectroscopia de Fotoelectrones (XPS/ESCA) es el permitir diferenciar distintos estados de oxidación y/o situaciones del entorno (coordinación) de los átomos en las muestras sólidas analizadas, así como el estudio de perfiles de composición combinando la técnica con el desbastado iónico empleando iones Ar+ acelerados. El límite de detección es del 0.5% para cada especie química.
Servicios
Análisis químico de superficies con fuente dual de rayos X (AlKα, MgKα) y con fuente monocromática (AlKα, AgLα)
Análisis químico de superficies de muestras sometidas a distintos pretratamientos bajo diversas atmósferas (H2, O2, CO, etc.) en condiciones controladas de temperatura y presión, tanto en condiciones estáticas como dinámicas.
Realización de perfiles de profundidad por XPS-AES (Auger Electron Spectroscopy) o XPS-ISS (Ion Scattering Spectroscopy)
Análisis químico de superficies en operando en distintas atmósferas (N2, H2, H2O, CO,...) hasta 25 mbar de presión y desde tempratura ambiente hasta 1000 oC, simulando condiciones reales experimentales de la muestra. Las fuentes disponibles son: fuente monocromática de rayos X (AlKα) o fuente de radiación UV.
Seguimiento de los gases de operación/reacción durante el análisis químico en NAP-XPS/UPS mediante espectrometría de masas (MS).
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